Gelor®-UV紫外光觸媒催化氧化凈化技術(shù)是集高能高臭氧紫外光光解技術(shù)、納米光觸媒催化氧化技術(shù)于一體，工藝原理如下：
利用UV紫外線(xiàn)光束照射廢氣，裂解廢氣分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線(xiàn)光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等；
利用UV紫外線(xiàn)光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧，UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3，臭氧具有強(qiáng)氧化能力，對(duì)異味氣體有立竿見(jiàn)影的清除效果；
催化劑在受到紫外線(xiàn)光照射時(shí)生成化學(xué)活性很強(qiáng)的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，攻擊有機(jī)物，達(dá)到降解有機(jī)物的作用。
光催化工藝原理圖
·能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、硫化氫、氨氣、硫醇類(lèi)等主要污染物，除臭效率高。
·無(wú)需對(duì)惡臭氣體進(jìn)行特殊的預(yù)處理，設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無(wú)需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理。
·設(shè)備占地面積小，運(yùn)行維護(hù)操作簡(jiǎn)單，設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.8度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜50pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
·適應(yīng)性強(qiáng)，適用氣體種類(lèi)多，可連續(xù)和間歇運(yùn)行。
